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遠紅外陶瓷加熱器技術設計原則

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發表時間:2021-09-27 10:04作者:揚州市奧能電氣科技有限公司

遠紅外陶瓷加熱器技術設計原則

評價遠紅外加熱系統的好壞,主要是看在整個加熱過程中是否是以輻射加熱為主,以傳導和對流加熱為輔,輻射加熱所占比例越大,說明該系統的性能越好。

經過遠紅外工作者們對大量的遠紅外烘道、烘箱熱能轉換效率的測定和理論上的研究。在80年代中期提出了判定輻射烘道的兩個方法:一是測定烘道內空間溫度和元件表面溫度,只有T空間<T元件20~40℃時,該烘道才稱為輻射烘道,元件符合遠紅外節電條件時,進而稱之為遠紅外烘道。二是改流水作業為靜態烘烤,如果不出現漆膜不均勻現象(色差)時,才能稱為輻射烘道,否則不能稱為遠紅外加熱。


遠紅外加熱技術設計原則

經過多年來的研究、實踐探討,科學工作者總結出了遠紅外烘道,烘箱的以下三條設計原則:

(1)均勻輻射場設計:均勻輻射場設計旨在保證工件不論運動到什么位置,其表面接受的輻射能是均勻的。均勻輻射場設計是利用輻射光學原理,計出一組數據,即:元件排列方式、元件間隔、反射罩形式、元件與工件距離。從而擺脫元件間隔100~350mm,元件與工件距離50~400mm的定性設計。

(2)勻溫度場設計:為防止烘道內均勻溫度場被破壞,應使烘道內上下左右溫度差保持在±5~10℃。

(3)均勻控溫技術設計:通斷式控溫導致局部溫度波動大。晶閘管調壓會降低元件的輻射,增加對流作用。應用調功器控溫,使遠紅外技術達到爐火純青的地步。


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